専門的な観点から見ると、チップの製造プロセスは非常に複雑で退屈です。ただし、IC の完全な産業チェーンは、主に、IC 設計 → IC 製造 → パッケージング → テストの 4 つの部分に分かれています。
チップの製造プロセス:
1. チップ設計
チップは小体積ながら非常に高精度な製品です。チップを作るには、設計が最初の部分です。この設計には、EDA ツールと一部の IP コアを使用した処理に必要なチップ デザインの助けが必要です。
チップの製造プロセス:
1. チップ設計
チップは小体積ながら非常に高精度な製品です。チップを作るには、設計が最初の部分です。この設計には、EDA ツールと一部の IP コアを使用した処理に必要なチップ デザインの助けが必要です。
3. シリコンリフティング
シリコンが分離された後、残りの材料は廃棄されます。複数の工程を経た純粋なシリコンは、半導体製造の品質に達します。これがいわゆる電子シリコンです。
4. シリコン鋳造インゴット
精製後、シリコンをシリコンインゴットに鋳造する必要があります。インゴットに鋳造された後の電子グレードのシリコン単結晶の重さは約100kgで、シリコンの純度は99.9999％に達します。
5. ファイル処理
シリコンインゴットを鋳造した後、シリコンインゴット全体を細かく切断する必要があります。これは、私たちが一般にウェーハと呼んでいる非常に薄いウェーハです。その後、ウェーハは完璧になるまで研磨され、表面は鏡のように滑らかになります。
シリコンウェーハの直径は 8 インチ (200mm) と 12 インチ (300mm) です。径が大きくなるほどチップ1枚あたりのコストは安くなりますが、加工難易度は高くなります。
5. ファイル処理
シリコンインゴットを鋳造した後、シリコンインゴット全体を細かく切断する必要があります。これは、私たちが一般にウェーハと呼んでいる非常に薄いウェーハです。その後、ウェーハは完璧になるまで研磨され、表面は鏡のように滑らかになります。
シリコンウェーハの直径は 8 インチ (200mm) と 12 インチ (300mm) です。径が大きくなるほどチップ1枚あたりのコストは安くなりますが、加工難易度は高くなります。
7. 日食とイオン注入
まず、フォトレジストの外側に露出している酸化シリコンや窒化シリコンを腐食させてシリコン層を析出させて水晶管間を絶縁し、その後エッチング技術を用いて底部のシリコンを露出させる必要がある。次に、シリコン構造にホウ素またはリンを注入し、銅を充填して他のトランジスタと接続し、その上に別の接着剤の層を塗布して構造の層を作成します。一般に、チップには、密に絡み合った高速道路のように、数十のレイヤーが含まれています。
7. 日食とイオン注入
まず、フォトレジストの外側に露出している酸化シリコンや窒化シリコンを腐食させてシリコン層を析出させて水晶管間を絶縁し、その後エッチング技術を用いて底部のシリコンを露出させる必要がある。次に、シリコン構造にホウ素またはリンを注入し、銅を充填して他のトランジスタと接続し、その上に別の接着剤の層を塗布して構造の層を作成します。一般に、チップには、密に絡み合った高速道路のように、数十のレイヤーが含まれています。
投稿時間: 2023 年 7 月 8 日